离子束辅助镀膜是近些年出现的新技术，在磁场和电场的作用下，闭环迁移的电子与气体碰撞放电形成离子，电场将离子引出加速发射，离子带有能量，具有能量的离子与电子聚集形成等离子体。

因普通物理清洗、烘干方式无法完全去除被镀工件表面污染物，而进行镀膜前，彻底的清洁处理至关重要，则使用该技术，借助等离子体深度清洗、轰击、刻蚀被镀工件，清除表面结合力弱的分子，并活化基体，从而提高膜层结合力，改善晶体结构。

因其成膜原子能量低、膜层附着力差但沉积速率快、镀制膜系广泛、可优化薄膜结构改善薄膜生长等特点，该技术一般不用于镀制膜层，只用于清洗、轰击、辅助沉积等。

在实际中，我们通过离子源电源实现该技术，除上述特点外，离子源电源还能提升气体离化率和活化度，与金属离子高效结合。重复性及一致性高，适用于工业化批量生产。因其薄膜光学特性还可用于光学、半导体等领域。

派立特生产的离子源电源采用进口IGBT搭配先进的MCU,PWM脉宽调制技术，为客户提供了大范围连续平稳可调的电压、电流、占空比，控制精度高。理性的电压陡降特性能够有效地抑制离子源表面的打火现象。极佳的负载匹配能力，既能保证清洗工艺的稳定性，还能提高清洗速度。

此外，我司的离子源电源为脉冲输出，标准电源电压峰值有2000V或3000V可选。针对宽缝、窄缝不同工艺要求，我们为客户提供了恒流、恒压不同工作模式的电源。通讯接口为本地控制、模拟量和数字量三种可选，操作更加便捷。当然，美观、轻巧、高稳定性等特点，一直是派立特对电源的基础要求，期待您的咨询。