无需双靶，单靶可制作中频工艺！

独家发布！电源革命！！

国家发明专利！！！

直流中频两用磁控溅射电源特点：
  1.可通过设置在直流和中频电源之间切换。
  2.灵敏的过流（灭弧）保护。
  3.电子电抗，负载匹配性好。
  4.集成化设计、体积小、水冷更稳定！
  5.做中频电源使用时，无需孪生靶材，即可用单靶制作中频工艺。
  6.可执行90%以上孪生阴极的工艺，可做化合物，反应溅射，有效防止靶材中毒。
  7.与传统中频电源相比，显著提高离化率！几乎相当于直流电源的离化效率。
  5.N+1备份，可做到永不停产！

典型应用：
1.LOW-E低辐射玻璃镀膜，可制备SIO2，TIO2，SIN,CRN,TIN,等等化合物。
2.ITO镀膜，SIO2,等
3.陶瓷多弧磁控溅射镀膜设备。
4.ITO氧化铟锡溅射镀膜设备。
。。。。。。

PLT/PS-DCS直流中频两用磁控溅射电源型号及参数
型  号     额定功率 冷却方式  控制方式 空载电压 最大电流  模块数量
PLT/PSDCS15K  15KW     风冷+水冷  恒电流    DC800V   25A       1+1
PLT/PSDCS30K  30KW     风冷+水冷  恒电流    DC800V   50A       1+2
PLT/PSDCS45K  45KW     风冷+水冷  恒电流    DC800V   75A       1+3
PLT/PSDCS60K  60KW     风冷+水冷  恒电流    DC800V   100A      1+4

上述型号，机身尺寸全部：L580 X W445 X H180m